随着全球 PFAS(全氟和多氟烷基物质)管控政策持续收紧,电子制造领域传统含氟电子氟化液(氢氟醚 HFE、全氟聚醚 PFPE 等)的应用面临合规成本攀升、环保风险加剧的双重挑战。巴斯夫电子级乙二醇(BASF Ethylene Glycol Electronic Grade EL)作为一款零氟含量的高纯电子化学品,以电子级超高纯度为核心基础,兼具精密清洗与高效传热冷却双重功能,可全面覆盖传统含氟氟化液在高端电子制程中的核心应用场景,在满足纳米级洁净度要求的同时,实现全流程无 PFAS 的绿色制程升级。
巴斯夫电子级乙二醇 EL 并非传统含氟氟化液,而是基于高纯度单乙二醇(MEG)开发的电子级溶剂与传热介质,是专为半导体、显示面板、高端精密电子制造场景打造的无氟氟化液替代方案。产品分子结构与生产全程不引入氟元素,不含任何 PFAS 类物质,可直接替代含氟氟化液在精密清洗、器件冷却、制程载体三大类核心场景的应用,同时彻底规避氟化物残留风险与环保合规压力。
作为极性有机溶剂,本品可高效溶解并去除电子元件表面的光刻胶残膜、有机污染物、微量油脂与亚微米级颗粒物,适配晶圆刻蚀后清洗、光刻胶剥离、PCB 后段助焊剂清洗等高端制程;凭借电子级超低杂质特性,清洗后无金属离子、灰分与有机物残留,避免器件发生电化学腐蚀、接触不良与良率下降,洁净度表现对标高端含氟氟化液。
本品具备高比热容与宽液态温度区间,可作为精密控温系统的基液使用,替代传统氟化液在半导体制造设备、激光仪器、高端检测设备中的冷却传热应用;低酸度、低金属离子的特性,可避免冷却管路结垢、腐蚀与堵塞,长期运行稳定性优于普通工业冷却液,保障设备控温精度与使用寿命。
与水、醇类等多数极性溶剂无限互溶,可根据工艺需求灵活调配清洗液、剥离液与传热介质配方,同时可替代氟化液作为特种润滑剂、功能涂层的稀释载体与分散介质,适配多种电子制程工艺要求。
产品严格遵循电子级化学品质控标准,主含量≥99.8%,对二乙二醇、水分、酸度、铁等金属离子、醛类、灰分均设置极严格限值,紫外透光率优异,可满足 12 英寸晶圆、先进制程节点的洁净度要求,清洗后残留水平与高端含氟氟化液相当,不会对器件性能产生负面影响。
产品本身不含氟元素,生产过程不添加任何含氟助剂,PFAS 物质零检出,完全符合欧盟 REACH 法规、美国 EPA PFAS 管控、中国新污染物治理等全球环保要求,适配对氟残留零容忍的半导体、医疗电子、食品级电子制造场景,助力企业打通绿色供应链认证。
沸点高达 197.4℃,常温下挥发速率远低于低沸点含氟氟化液,高温工况下损耗更小、使用寿命更长;冰点低至 - 13℃,通过超纯水稀释调配后冰点可进一步降低,可在宽温度范围内保持液态与性能稳定,同时适配高温清洗与低温冷却两类场景。
对铜、铝、不锈钢等常见电子器件与管路金属材质,以及多数工程塑料、密封件兼容性优异,替代传统氟化液时无需大规模更换原有设备与管路材质;采购成本显著低于进口含氟氟化液,同时可通过蒸馏方式回收循环使用,进一步降低制程综合成本。
| 参数项目 | 指标数值 | 测试条件 |
|---|---|---|
| 化学名称 | 单乙二醇(乙二醇) | —— |
| CAS 号 | 107-21-1 | —— |
| 氟含量 | 未检出 | —— |
| 外观 | 无色透明液体,无机械杂质 | 常温目视 |
| 熔点 | -13℃ | 1013 hPa |
| 沸点 | 197.4℃ | 1013 hPa |
| 密度 | 1.11 g/cm³ | 20℃ |
| 闪点 | 111℃ | 闭口杯法 |
| 溶解性 | 与水、多数极性溶剂完全互溶 | 20℃ |
| 指标项目 | 限值要求 | 单位 |
|---|---|---|
| 乙二醇主含量 | ≥99.8 | %(质量分数) |
| 二乙二醇含量 | ≤0.1 | %(质量分数) |
| 水分 | ≤0.1 | %(质量分数) |
| 酸度(以乙酸计) | ≤10 | mg/kg |
| 铁含量 | ≤0.1 | mg/kg |
| 灰分 | ≤10 | mg/kg |
| 色度(铂 - 钴) | ≤5 | Hazen |
| 紫外透光率 220nm | ≥75 | % |
数据参考巴斯夫官方产品规范与技术资料
半导体晶圆制程替代 HFE 类含氟氟化液,用于晶圆光刻胶剥离、刻蚀后漂洗、芯片封装清洗等工序;同时可作为光刻机、刻蚀机等核心设备的精密冷却介质,替代氟化液冷却方案。
显示面板与光伏制造应用于 LCD/OLED 面板阵列制程的有机清洗、光刻胶去除工序;用于 TOPCon、HJT 高效太阳能电池的硅片清洗与制绒辅助,无氟残留避免影响光电转换效率与产品良率。
精密电子与封装清洗用于高端 PCB/FPC、MEMS 器件、传感器模组、精密连接器的后段高精度清洗,替代氟化液去除助焊剂、指纹残留与有机污染物,适配超声清洗、喷淋、浸泡等多种工艺。
精密设备控温冷却作为激光设备、光学检测仪器、高端医疗设备、数据中心精密服务器的冷却介质,替代传统含氟浸没式或循环式冷却方案,无腐蚀、无结垢,保障长期控温精度。
替代原有含氟氟化液前,需彻底排空管路与设备中的含氟介质并进行吹扫清洁,避免交叉污染影响制程洁净度。
作为冷却液使用时,需使用 18MΩ・cm 以上超纯水进行浓度调配,禁止使用自来水稀释,避免引入杂质离子造成管路腐蚀或器件污染。
不可与丙二醇型冷却液、其他品牌含氟 / 非氟冷却液随意混用,防止产生沉淀、破坏缓蚀体系或降低洁净度。
操作时需佩戴耐化学品手套、护目镜与防护工作服,避免皮肤长期反复接触,禁止吸入产品蒸气与雾气。
产品为可燃物,需远离火源与高温热源;泄漏时用惰性吸附材料吸收,避免进入水体与下水道,废液按危废规范处置。
储存于阴凉、干燥、通风的库房内,环境温度建议不超过 40℃,避免日光直射,远离热源与火源。
容器必须保持密封完好,防止水汽、灰尘进入导致产品纯度下降;开封后需尽快用完,剩余产品重新密封并标注开封日期。
与强氧化剂、强酸、强碱类化学品分开储存,储存区域配备相应消防器材与防渗漏设施。
