覆盖率差异
浸涂法:对复杂结构(如电子元件内部、密集引脚)的覆盖更全面,能渗透到缝隙和角落,但膜厚均匀性较差(边缘比中心厚20%-30%)。
喷涂法:平面或规则结构的覆盖率较高,但复杂内部可能因遮蔽效应出现漏涂,需多次喷涂或调整参数。
适用场景对比
优先选择浸涂法:
电子元件、异形PCB等复杂结构。
需快速返工或局部修复(如刷涂补涂)。
优先选择喷涂法:
平面或规则结构的大规模生产(如工业设备外壳)。
需严格厚度控制的场景(如光学涂层)。
注意事项
浸涂需控制黏度(80–120 mPa·s)和提拉速度,避免流挂。
喷涂需优化喷枪压力(0.2–0.4 MPa)和距离(15–25 cm)。
两者均需确保基材清洁(如等离子清洗)以提升附着力。