电子氟化液不仅能用于半导体设备控温，更是7nm及以下先进制程中高端设备（EUV光刻机、干法刻蚀机、离子注入机等）的标准控温介质，甚至是“唯一可行解”。在半导体制造对温度波动要求达到±0.05℃级别的今天，氟化液凭借极致绝缘性、化学惰性、宽温...